31台光刻机卖352亿,荷兰ASML暴富背后,离不开一个中国专家

31台光刻机卖352亿,荷兰ASML暴富背后,离不开一个中国专家
2021年01月23日 20:35 硬核科技社

光刻机中曝光光源决定了光刻工艺加工器件的线宽等特征尺寸,光刻机的精度,决定了芯片的上限。因而,采用了最先进的极紫外光源的EUV光刻机,受到了台积电、三星的争抢。

这让全球唯一能生产EUV光刻机的ASML,赚得盆满钵满。

2020年业绩创新高

据1月20日ASML公布的财报显示,2020年ASML全年销售额为139.8亿欧元,累计交付光刻系统258台。在销售额、净利润等方面,ASML在2020年的成绩,均创下5年来新高。

值得注意的是,ASML的31台EUV占据了系统销售额的43%。计算来看,ASML的31台EUV光刻机,便卖出了352亿元。

ASML的第一次转折

如今的ASML正意气风发,不再是当初那个没钱、没技术、没关注,连员工都对未来发展迷茫的小工厂。

回顾ASML的发展史,2004年全球首台浸润式光刻机的问世,成为了ASML发展历史中第一个转折点。而这一切,与一位叫林本坚的台积电工程师有关。

林本坚突发奇想

当时,光刻机光源波长卡在了193nm,制约了芯片精度的向前推进。

为了打破这一僵局,当时以尼康为首的半导体巨头,希望能基于前代技术,采用157nm的F2激光,实现更进一步。

而EUV LLC联盟一派,则希望攻克极紫外技术,实现十几纳米的光源。但是极紫外技术的攻克难度十分大。

这时,中国专家林本坚突发奇想,可以用水改变光的折射率的原理,来缩短光源的波长,这样一来,193nm的激光可以达到132nm的波长。

为实现这一想法,林本坚拜访了多家半导体巨头,但都被拒绝。毕竟当时正是竞争的关键时刻,谁也不敢尝试这种新方法,耽误自己的研发进度。

而且,这一方法听起来容易,却有许多难点需要攻克,譬如,如何解决水污染?

浸润式光刻机

不过,本来就没有什么优势的ASML听到这一想法后,倒是想要试一试。于是,ASML与台积电一拍即合,开始了研发。

2004年,全球首台浸润式光刻机便在ASML手中问世,ASML成功抢在了尼康干式157nm光刻机的前面。并且,ASML的光刻机精度更高、性能更强。

由此,IBM、台积电等都纷纷向ASML抛出了订单。由此,ASML开始崭露头角,市场份额快速增长。

此后,ASML又成功打入EUV LLC联盟,而尼康则被拒之门外。在一众科技巨头的共同努力下,ASML成功研发出EUV光刻机,自此奠定了其在光刻机领域难以撼动的地位。

文/BU 审核/子扬 校对/知秋

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