近日，荷兰光刻机设备生产商阿斯麦（ASML）公布了2021年第二季度财报。
财报显示，阿斯麦公司第二季度的营收达到40亿欧元，净利润10亿欧元，市场预期12.11亿欧元。阿斯麦预计第三季度净营收52亿至54亿欧元，市场预估为46.9亿欧元，阿斯麦还将全年营收增长目标提高约35%。
而第二季度的新增订单金额则达到83亿欧元，其中49亿欧元来自EUV系统订单，总计未交货订单金额达到175亿欧元。
ASML在财报中还披露，第一台全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻机系统已经交付给客户，相比之前的NXE:3400C生产力提高了15-20％，覆盖率（套刻精度）提高了约30％。
另外， ASML也正增加EUV在存储器产业的量产应用，并协助3家DRAM客户实现在未来的制程节点中导入 EUV 的计划；至于DUV (深紫外光) 微影系统业务，ASML的TWINSCAN NXT:2000i 浸润式微影系统在客户端达到单日曝光6,300片晶圆的新纪录。
ASML总裁暨执行长Peter Wennink表示，来自于不同细分市场和对于ASML 产品组合的需求仍然很高，主因是市场专注于提高产能以支持数位基础设施的建设和购置，这同时带动了市场对于逻辑及存储器芯片的长期需求，不仅在先进制程节点方面，在成熟制程节点也是。因此，ASML正在努力将设备产量最大化，目前预计2021年的全年净销售额将比2020年成长约35%，预计毛利率在51%至52%之间。
据了解，ASML EUV光刻机目前还是第一代产品，EUV光源波长13.5nm左右，物镜NA数值孔径0.33，并发展了一系列型号。
最早量产出厂的是NXE:3400B，产能有限，晶圆产能只有125PWH，目前的出货主力是NXE:3400C，产能提升到135WPH，而最新的NXE:3600D产能进一步提升到160WPH，价格据说也达到了1.45亿美元(约合人民币9.38亿元)。
第二代EUV光刻机将会是NXE:5000系列，物镜NA提升到0.55，进一步提高光刻精度，但原计划2023年问世，现在推迟到2025-2026年，而价格预计将突破3亿美元。
