Intel 7nm工艺密度再提升两倍,对标台积电5nm

Intel 7nm工艺密度再提升两倍,对标台积电5nm
2019年07月21日 06:38 Tekapic嘚卡写真

Intel 10nm的Ice Lake处理器于今年6月份正式量产,不过前期仅用于 U/Y 系列低功耗型号及轻薄型笔记本,桌面级产品就要等到2020年才能上市,至于后续的发展, Intel新任CEO Bob Swan 在参加 Fortune's Brainstorm Tech conference 技术会议时就透露了Intel公司未来的发展方向及计划,表示7nm工艺将在两年内推出,即 2021 年就会看到实物。

在 Fortune's Brainstorm Tech conference 技术会议上, Intel CEO Bob Swan 接受访问时提到,毫无疑问 Intel 正朝着其里程碑迈进,不过 14nm工艺自 2014 年末推出至今已使用了近5 年的时间,的确有点落后,由于工艺技术的难度越来越高,加上公司在10nm工艺的目标设置得过于激进,导致 10nm 延期足足迟了五年。

在晶体管密度的发展,Bob Swan 表明 Intel 仍然保持领导地位,10nm工艺相比14nm工艺提升了2.7 倍,至于在10nm后续的7nm工艺,公司的目标是将密度提升两倍,每瓦性能提升20%,设计复杂度降低了4 倍,Intel 更是首次在7nm用上 EUV 光刻工艺,有助于提升工艺微缩。

大家最关心的当然是 7nm 的上市时间,Bob Swan 透露7nm已在开发中,对标的就是台积电的5nm,预计最快会于2021年量产,不过首发产品的并不会是CPU产品,而是Xe架构中针对数据中心、AI 高性能运算的GPU加速卡,CPU 的话最快也要到 2022 年才能完成。而采用台积电5nm工艺的zen5处理器预计将于2022年上市,届时Intel和AMD很可能运用最新的工艺制程上演巅峰对决。

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