三星电子启动新版12nm DRAM工艺项目D1B-P以应对良率与性能挑战

三星电子启动新版12nm DRAM工艺项目D1B-P以应对良率与性能挑战
2025年01月21日 17:43 DoNews

据韩媒ETNews报道,三星电子为应对其12nm级DRAM内存产品在良率和性能上的双重挑战,已决定在改进现有1b nm工艺的同时,从头设计新版1b nm DRAM。该项目名为D1B-P,专注于提升能效和散热表现,采用了与三星第六代V-NAND改进版制程V6P相同的命名逻辑。

尽管三星在2022年和2023年先后宣布其12nm级DDR5 DRAM完成开发与批量生产,但该工艺在LPDDR5x等关键领域未能取得预期成功,导致三星DS部门失去了Galaxy S25系列手机初期内存一供的地位。目前,现有12nm级DRAM工艺的良率仅为60%左右,远低于业界大规模量产所需的80%~90%。

为加速D1B-P项目的进展,三星电子已在2024年底紧急订购了必需设备,预计该制程将于2025年内量产,最早可能在今年2~3季度推出。

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