金融界2024年11月22日消息，国家知识产权局信息显示，镓特半导体科技（铜陵）有限公司取得一项名为“用于生长GaN的HVPE设备排气装置”的专利，授权公告号CN 222024560 U，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本实用新型公开了用于生长GaN的HVPE设备排气装置，包括：反应腔（1）、取片腔（2）、连接反应腔和取片腔的法兰以及过滤器（3），所述法兰上连通有排气管（4），所述排气管的末端连通有上外管（5），所述上外管内同心设置有与排气管连通的上内管（6），所述上内管的末端露出在上外管的底部之外，所述上内管的末端外套接有下外管（7），所述下外管内同心设置有与上内管连通的下内管（8），所述下内管的末端露出在下外管的底部之外，所述下内管通过波纹管（9）与过滤器连通。本实用新型的有益效果是用外管套内管的方式，内管可以插入另一个管道的外管内，外管是起到密封作用，内管是防止金属镓直接接触连接部分，提高排气管的可靠性。
