无锡金源半导体科技取得一种加热喷淋头专利,保证薄膜沉积的质量

无锡金源半导体科技取得一种加热喷淋头专利,保证薄膜沉积的质量
2024年11月23日 11:11 金融界火线

金融界2024年11月23日消息,国家知识产权局信息显示,无锡金源半导体科技有限公司取得一项名为“一种加热喷淋头”的专利,授权公告号CN 222029044 U,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本实用新型涉及一种加热喷淋头,包括盖板和喷淋板,其中,所述盖板上设置有加热元件,所述盖板盖设在所述喷淋板上,所述盖板与所述喷淋板之间形成喷淋腔;所述喷淋板远离所述盖板的表面为内凹面,所述内凹面使得所述喷淋板的板厚从中心向边缘逐渐增加,所述内凹面上开设有若干喷淋孔,所述喷淋孔贯穿所述喷淋板并连通所述喷淋腔。喷淋板的喷淋表面为内凹面,使得喷淋板的板厚从中心向边缘逐渐增加形成一个弧形腔体。介质从喷淋板上喷出后首先在弧形腔体内均匀热量,使得喷淋在晶圆上的介质的热量更加均匀,进而保证薄膜沉积的质量。

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