金融界2024年12月3日消息，国家知识产权局信息显示，广州方邦电子股份有限公司申请一项名为“一种屏蔽膜及折叠电子设备”的专利，公开号CN 119053145 A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明涉及电磁屏蔽膜技术领域，公开了一种屏蔽膜及折叠电子设备。屏蔽膜在弯折后，屏蔽膜的电阻会出现变化，因此屏蔽膜的电阻变化是衡量其弯折性能的重要指标，当屏蔽膜的弯折次数在第一预设范围内，且屏蔽膜电阻变化率Δ y与屏蔽膜弯折次数差值Δ x之间满足如下函数：0.5≤| Δ y*10000/ Δ x|≤33时，屏蔽膜能达到设定的弯折性能，以使得该屏蔽膜满足折叠电子设备多次折叠的要求，Δ y为屏蔽膜弯折第m次和弯折第n次下电阻的变化率，Δ x为对m与n的差值，m大于n，且Δ x为100的整数倍，第一预设范围为300‑2000次。由于第一范围为300‑2000次，远远小于屏蔽膜失效的弯折次数，因此，减少了屏蔽膜的弯折次数，减少了试验的周期。
