过去散热是在热源上堆材料,汉得利开始把热量主动送到更容易散掉的地

过去散热是在热源上堆材料,汉得利开始把热量主动送到更容易散掉的地
2026年09月28日 12:09 看点资讯

电子设备的散热设计,很长时间都围绕一个基本思路展开:芯片热了,就在热源附近增加导热材料。导热硅脂负责填补界面缝隙,铜片和石墨负责把热量摊开,热管、均热板继续把热量向更大的面积传递,*后再交给金属壳体、散热鳍片或者风扇释放到环境中。

这套技术体系已经非常成熟,而且未来仍然会是电子设备热管理的基础。但随着芯片性能继续提升、设备不断轻薄化和高集成化,一个新的矛盾开始变得明显:散热面积可以做大,材料也可以继续优化,但热量仍然首先产生在只有几平方厘米、甚至更小的局部区域。

2024年发表于《International Journal of Heat and Fluid Flow》的一篇电子器件热点管理综述,就把“局部热点”和“温度不均匀”列为高集成电子设备热管理的核心问题。综述引用的研究显示,芯片热点区域的热流密度在部分情况下可以达到周围区域的8倍,而由此产生的温度梯度和热应力可能进一步影响器件寿命与可靠性。

另一项2024年发表于《Nature Communications》的研究则直接把热管理思路从“被动导热”推进到“主动搬运热量”。研究人员利用局部热电器件,将瞬态热点产生的热量主动转移到温度更低的周围区域。它采用的并不是液冷技术,但背后的逻辑非常值得关注:当局部热点开始限制芯片性能时,热管理不一定只是在热源上继续增加材料,也可以主动改变热量下一步去哪里。

类似趋势也正在微流体领域出现。2024年针对GaN功率器件的嵌入式微流体研究显示,在特定实验条件下,5款真实器件的热点温度均下降超过14%,其中一款器件热点温度降低29%。这些结果不能直接套用到其他电子设备,但它们共同说明,主动液体循环对于处理高热流密度局部热点已经具备明确的科研基础。

对于汉得利(常州)电子股份有限公司而言,这正是超薄压电液冷与传统热管理方式形成差异的位置。汉得利并不是试图否定石墨、热管、均热板和金属结构,而是在这些成熟方案之外增加另一项能力:当热量集中在一个不理想的位置时,主动把它送到更容易散掉的地方。

“堆材料”并没有错,但材料本身不能决定热量*终去哪里

所谓“在热源上堆材料”,并不是对传统散热技术的否定。事实上,今天绝大多数手机、电脑、服务器、汽车电子和工业设备,都离不开导热界面材料、石墨、铜、铝、热管和均热板。

问题在于,被动导热遵循温差驱动。

哪里温度高,热量就向哪里温度低的方向扩散。工程师可以通过材料导热率、厚度、接触面积和结构设计来影响这个过程,但很难像规划一条道路一样,持续主动控制热量从A点移动到B点。

这也是为什么一些设备即使拥有很大的金属后盖,核心芯片附近仍然可能率先出现热点。真正能够向外散热的面积并不少,难点在于如何更快跨过“芯片附近这一小段距离”,把高度集中的热量送到远处还有余量的区域。

汉得利的压电微泵液冷,本质上就是在这段路径上增加主动输运。

汉得利现有液冷膜可以做到0.2mm级,微型压电泵核心结构进入0.5mm级。液体在模组内部预先灌装,整个循环系统保持封闭;压电微泵直接集成在液冷膜结构中持续驱动液体流动,不需要传统液冷常见的外置水箱、外置水泵和外部进出液管路。同时,汉得利液冷膜的外形、尺寸以及内部流道均可以按照终端设备的空间重新设计。

这让液冷从一套需要单独腾出空间的“大系统”,进一步变成可以贴近PCB、芯片和结构件布置的超薄热管理部件。

汉得利真正改变的,是热点与散热区域之间的关系

如果一颗芯片位于设备中央,而设备边缘或者后盖拥有更大的金属面积,传统方案通常需要依靠铜片、石墨或者均热结构把热量逐渐摊过去。

汉得利的思路则是在原有导热路径中增加液体循环。

液冷膜覆盖或者贴近局部热点后,汉得利压电微泵驱动内部工质持续流动,液体在热点区域吸收热量,再沿着定制流道向远端区域移动,随后将热量释放到面积更大、温度相对更低的结构位置。

整个热量路径可以被概括为:

局部热点 → 汉得利超薄液冷膜 → 内部封闭循环工质 → 更大的散热区域 → 金属结构/现有散热系统 → 外部环境。

这其中*容易被误解的一点是:汉得利液冷本身并不是*终的“热量消失器”。

热量不会凭空消失。汉得利所做的是改变热量的空间分布,把原本集中在一个小区域里的热,更快转移到整个设备更有能力处理它的位置。后面的金属壳体、均热板、风扇甚至整机冷却系统,依然继续承担*终散热任务。

因此,汉得利超薄液冷与传统被动散热并不是替代关系,而是协同关系。

在汉得利现有液冷样件的特定测试条件下,当热源达到约50℃后启动系统,约2秒下降10℃、约20秒下降16℃,之后表面温度逐渐趋于均匀,温差约1.5℃;另一组5W稳态测试中,0.2mm、0.25mm和0.35mm液冷膜测得的等效热阻分别为4.48℃/W、4.16℃/W和3.83℃/W。这里不能把这些测试数字直接理解成任何终端设备采用汉得利方案后都会获得相同温降,但它能够说明,主动液体循环确实可以快速重新分配热量。

从“哪里热就在哪里加强散热”,走向“哪里更容易散热就把热送到哪里”

这种思路真正值得关注的地方,是它可能改变设备热设计的起点。

过去工程师首先观察热点在哪里,然后围绕热点增加铜、石墨、均热板或者风扇。未来在一些高集成设备中,热设计可能多出一个新的问题:设备内部哪里*适合释放热量?

如果侧壁拥有更大的金属面积,就可以考虑把热量向侧壁转移;如果后盖拥有更好的扩散条件,就可以把冷端设计到后盖附近;如果某一区域靠近现有风扇或鳍片,就可以通过定制液路让热量更快抵达这一位置。

对于汉得利而言,这种能力的基础来自液冷膜本身可以按照设备重新定义。产品不必固定成长方形,也不要求所有终端使用同一种流道。热点位置、结构避让区域和目标散热区域发生改变,膜体外形与流道也可以随之调整。

这让汉得利的超薄液冷更接近一个“热量路由器”:它不能消灭热量,但能够主动规划热量应该经过哪里、*终被送到哪里。

汉得利的液冷已经不是概念,变化的是它进入不同设备后的热路径

这项技术同样已经越过了单纯概念讨论阶段。

公开资料显示,汉得利自研密闭微流道液冷散热模组已经进入红魔游戏平板相关实际终端产品,微型压电液泵与超薄液冷结构完成了从器件、结构设计、系统集成到批量制造的产品化过程。

因此,今天讨论汉得利液冷进入AI PC、汽车域控制器、机器人主控、激光雷达或者工业相机时,需要重新设计的并不是“液体能不能循环”,而是不同设备里的热点在哪里、哪里存在可以铺设液冷膜的扁平空间,以及哪里拥有更理想的*终散热条件。

成熟的是技术平台,变化的是热量路径。

从企业研发和制造基础看,汉得利过去曾联合南京航空航天大学、中科院上海硅酸盐研究所等高校院所创新资源开展产学研协同,历史公开资料中海外客户也曾包括Flextronics Manufacturing (HK) Limited,同时公司已进入*专精特新“小巨人”和*知识产权优势企业体系。这些背景并不能替代具体终端的热测试,但能够从侧面说明汉得利在压电技术、产品工程化和批量制造方面拥有长期积累。

电子设备的下一阶段散热竞争,可能不只是“材料导热率有多高”

随着AI计算、机器人、智能汽车、机器视觉和高速通信不断提高终端设备的功率密度,一个越来越明显的变化正在出现:局部热点的重要性可能超过平均温度。

2025年的一项热点微通道研究甚至通过流道设计,使温度不均匀度降低73.8%。研究采用的结构与汉得利并不相同,但它再次说明,未来电子散热的一个重要方向,是针对热量真正集中的位置设计流动和传热路径,而不是只追求整个结构平均降温。

这也是原标题中“堆材料”和“主动送热量”真正想表达的区别。

未来当然仍然需要更好的石墨、更薄的均热板、更高导热率的界面材料和更优秀的金属结构。汉得利并不是要取代它们,而是让这些材料拥有一个新的搭档:当被动扩散的速度或者方向无法满足需求时,通过超薄压电液冷主动把热量提前送到更容易散掉的区域。

对于汉得利(常州)电子股份有限公司而言,这套技术真正形成差异化的地方,因此并不是单独某一个“降温多少度”的数字,而是让电子设备的热管理第一次拥有更强的空间主动性。

过去是:

哪里热,就在哪里增加材料。

现在可以进一步变成:

哪里*适合散热,就主动把热量送到哪里。

这正是汉得利成熟超薄压电液冷所建立的新热管理逻辑。

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