5纳米芯片国产化?为之喝彩但别被误导!

5纳米芯片国产化?为之喝彩但别被误导!
2018年12月31日 20:26 阿狍狍狍

现在Made in China已经享誉全球,可中国虽然是一个制造大国,却并不算是科技强国,尤其在半导体产业上,核心的技术都掌握在别人手中,芯片制造设备的95%都是依赖于进口。起步晚,底子薄,造成了民用领域的国产芯片制造很长时间以来都处于一种落后的状态。

不过随着国家的重视与政策的倾斜,国产芯片也已经取得了不错的进展,现在至少已经有紫光国芯、合肥长鑫、福建晋华三家公司在LPDDR4芯片的研发与制造上有了重要的突破。而紫光国芯的DDR4内存芯片更是很快就将面市。但说到芯片制造就不能不提到光刻与蚀刻这两个关键的工艺,目前世界上先进的芯片工艺已经进入了7纳米制程,甚至5纳米制程,但是光刻、蚀刻作为芯片生产的最关键步骤,技术要求非常之高,顶尖的光刻机、蚀刻机的生产与制造都集中在荷兰ASML等几家大公司。

国内的半导体企业也并未放缓追赶的步伐,据最新消息报道,全球最大的代工企业台积电,就将在它最先进的5纳米芯片制程生产线上,采用国产的刻蚀机设备,华为的5纳米麒麟处理器芯片,就会采用这款世界领先的国产5纳米蚀刻机。这台5纳米等离子体蚀刻机是中微半导体公司自主研制的,性能优良,不然也不会得到台积电的验证。中微半导体位于上海金桥出口加工区,成立于2004年,是由 “硅谷最有成就的华人之一” 尹志尧放弃了美国的百万年薪,带领三十多人的团队突破重重阻力回国后创办的。

可是能够加工5纳米的芯片元件,并不代表着就能够生产5纳米芯片,刻蚀只是芯片制造众多关键环节当中的一环,此次5纳米刻蚀机所取得的突破固然可喜可贺,但是在光刻机领域,我们还是一个严重落后的状态,目前国内最为先进的光刻设备公司上海微电子也只实现了 90纳米 光刻机国产化。而无锡影速仅仅实现了200纳米光刻机国产化,这都与7纳米制程相差甚远。

道路虽远,但前途光明,相信在不远的未来国产芯片将会突破一个个技术壁垒,从而实现真正的国产化。

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