在现有的半导体工艺体系下，7nm以下的制程必须要用到EUV光刻机，而作为全球EUV光刻机的唯一供应商，荷兰的ASML公司的EUV光刻机的一直都是供不应求。近日，ASML公司又进入到半导体检测设备领域，推出了第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000，适用于5nm及更先进工艺，使得速度提升600%。
随着制程工艺不断提升，晶圆的制造也越来越复杂，这也会导致晶圆中的错误更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技术的检测系统，内部也有复杂的光电子系统，能够产生、控制多个电子束，然后根据反射回来的电子束成像来分析晶圆质量，并有高速运行的平台以控制测试的晶圆数量，还要有计算系统处理电子束的数据。
简单来说，ASML研发的这个HMI eScan1000机器就是一台验证先进工艺生产出来的晶圆质量的系统，工艺越先进，检测系统就越重要，它的检测精度、吞吐量决定了生产的效率。
ASML的HMI eScan1000的突破之处在于能够同时产生、控制九道电子束，所以产能提升了600%，可以大大减少晶圆质量分析所用的时间。
目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先进工艺的晶圆测试，已经交付给客户进行测试验证，未来ASML还会推出光束更多的测试设备以满足客户对先进工艺的要求。
