LG Innotek申请FMM结构新专利,可减少OLED面板污渍与光干扰

LG Innotek申请FMM结构新专利,可减少OLED面板污渍与光干扰
2023年04月03日 17:13 OLEDindustry

近日,来自etnews外媒报道称,LG Innotek申请了一项通过均匀沉积OLED发光材料从而实现发光效率的专利,同时该项专利还可以最大程度上减少以往OLED面板上的污渍以及光干扰问题。

据了解,LG Innotek该项专利主要在于改变FMM(全称Fine Metal Mask精细金属掩模结构)结构,FMM可以让OLED有机材料精确沉积在显示像素的元件,需要钻出数千万个直径为 20 至 30 微米 (㎛) 的孔,正因为如此,FMM 行业正专注于钻探精确的有机渗透孔。

LG Innotek OLED Mask

而LG Innotek在研究后发现,该种方法会降低有机材料沉积的效率,主要是由于FMM厚度比较薄,容易发生扭曲,从而会在OLED面板上形成污点或者光干涉引起的“波纹”,进而影响屏幕观感。基于此,LG Innotek提出通过改变FMM结构来提升均匀性,通过不同尺寸的孔交叉形成一个孔,最大限度地减少相邻孔之间的偏差,可减少FMM扭曲,有望可以延长OLED的使用寿命。

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