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导读：一台10万多个零部件，造一台高端EUV光刻机，真的比登天还难吗？
众所周知，在现代科技领域里，半导体芯片无疑是非常重要的，现在小到一块电子手表，大到航空航天等领域的发展都需要有芯片的支持，离开了半导体芯片我们的手机甚至都无法开机；而芯片性能的好坏也直接决定着我们的使用体验，目前最先进的5nm工艺的芯片内部包含着几百亿个晶体管线路，想要研发和生产出先进的芯片也是比较困难的！
想要在一个还没有指甲盖大小的半导体芯片中集成上百亿个晶体管线路，这一工作紧紧是依靠人工显然是无法完成的，能完成这一工作的只有光刻机；光是自然界最精细的 '' 画笔 ''，所以用光刻机来生产半导体芯片无疑也是人类科技发展史上的一大奇迹；想要生产先进工艺的芯片，那么就必须要拥有先进的光刻机才行，目前全球领先的光刻机技术几乎都被荷兰ASML公司所掌控，而在种种原因的限制下，我国又无法直接从ASML公司手中购买到先进的光刻机，所以我们也只能自主研发！
在荷兰ASML公司的产品中，EUV光刻机是最为先进的；曾经ASML公司的总裁公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，中国也造不出来；而他之所以这样说，主要就是因为一台先进的EUV光刻机内部包含着10万多个零部件，而这些零部件的供应商则来自于全球超过5000家企业，可以说生产光刻机的零部件都是精益求精的，我们想要在短时间内生产出光刻机确实很难，但光刻机是人造的，并不是神造的，那么造一台高端EUV光刻机，真的比登天还难吗？
一台先进的EUV光刻机的制造工艺非常的复杂，从紫外光源、光学镜头、精密运动以及环境的控制都有着极其严格的标准，而且在光刻机制造的过程中还需要运用到光学、流体力学、数学、高分子物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件识别等多个领域的综合性技术的配合，从光刻机的生产制造工艺来说，它的生产集成了人类最顶级的智慧，所以想要生产一台先进的EUV光刻机确实很难！
不过，我国在光刻机领域的研发也并非是一片空白，我国的清华大学在光刻机等卡脖子技术领域就展开了研发，并已经在光学镜头，光源和双件工作台等光刻机的三大核心零部件领域成功取得了突破，而且我国的上海微电子也已经成功的研发出了28nm的光刻机，最快在2021年的年底前就能下线商用，可以说我国能在这么短的时间里，就在光刻机领域取得突破也是非常不容易的！
要知道，中国地大物博，而且我国还拥有14亿多的人口，所以我国也是人才济济的，光刻机就算是再难研发，也是人造的，并不是神造的，所以攻克先进的EUV光刻机技术也只是时间问题；要知道，此前我国在很多前沿科技领域的发展都遭到了国外技术的封锁，但是我们都没有因此而后退，就算是再难研发，只要我们用心和努力，也都能取得突破，当年的“两弹一星”也很难，但是我们还是取得了成功，而现在的光刻机虽然也同样难，但是当我们用举国之力去研发的时候，光刻机也就变得不再难了，不知道对此你是怎么看的呢？
