三星电子于4月16日宣布，它已成功开发出5纳米半导体工艺，并将于本月正式批量生产半导体行业中首个使用极紫外光刻（EUV）的7纳米芯片。这种前前台积电采用Arf技术，首先开发7纳米工艺，并获得苹果和华为等厂商的大量订单。
三星的5nm半导体工艺采用EUV技术。与ArF工艺相比，EUV使用短波长来更精确地绘制精密半导体电路。为此，三星电子在波兰半导体设备制造商ASML中推出了最先进的EUV设备，该设备价值约5.3亿美元。三星电子称：“这次开发的'5nm工艺'通过单元存储设计进行了优化，与现有的7mm相比，面积减少了25％，而功率使用率提高了20％，性能提高了减少10％。”
三星电子表示：“国内Fabless（专业设计）业务将有各种设计基础设施，Fabless客户将能够更轻松，更快速地设计产品，并且可以提前推出新产品。”
