光刻版、掩膜版没有区别，是同一个东西，都是光刻掩膜版，又被称作光罩、MASK、photo mask，常见的材质有石英玻璃和苏打玻璃，是制作芯片过程中，光刻所需的图形转移工具。苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，强大的生产力可实现三天交付,客户提供质量更优,价格更廉,制版更快的贴心服务。
苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，公司硬件配置先进，从瑞典、日本、德国等国引进同行业先进的掩模版直写光刻制作系统及检查测量的设备，公司核心技术团队硕士学历及以上占比80%，骨干员工均有5年以上的掩模版生产、研发经验。
公司的主要产品高精密掩模版应用于：集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件行业，产品处于中国大陆掩膜版行业的先进水平。同时公司拥有强大的MEMS设计与加工实力，具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力，为客户提供全方位的技术服务。
