大家都清楚，EUV光刻机是当前最先进的光刻机技术，可以用于7nm及以下芯片的制造，采用13.5nm波长的极紫外线，售价几亿美元一台。
而这样的EUV光刻机，目前也只有荷兰的ASML一家能够制造，像日本的Cana、Nikon，以及中国的上海微电子，都无法制造。
所以这就导致我们制造7nm及以下工艺时候时，被光刻机卡了脖子了。
那么问题就来了，为何EUV光刻机，只有ASML一家能够制造出来，而我们研发不出来呢？原因到底出在哪里？
其实仔细分析起来，有三个方面的原因。
一、起步晚10年，中间又停了10多年研发。
不说EUV，就说最开始的光刻机发展，从步进式开始，中国就落后美国十年以来，后来有一段时间，中国更是涌现了了“造不如买”的思源，导致国产光刻机的研发，又停步了十多年。
而光刻机技术是一代一代积累的，从干式到浸润式，再到EUV，一步一台阶，就像修高楼一样，是先打地基，再从第一层，慢慢的修到第100层。
如果你前面的地基都没有打好，就想直接修50层，修100层，这现实么？所以还得从地基打起，慢慢修上去，前面的课缺了，就得补。
二、技术封锁
EUV光刻机的技术，其实是美国最早研发出来的，但美国研发出原型之后，将一整套理论和技术，交给了ASML，让ASML来研发。
美国看来，造光刻机是苦活累活，让ASML干得了，自己就用现成的，反正ASML也是自己控制的，美国还让英特尔、台积电、三星等投资ASML，做强做大EUV市场。
而ASML，拿到技术后，拿到资金后，申请了众多的专利，还垄断了元件供应市场，与一些供应链签订独家协议，将核心技术、核心元件，控制在自己手中。
而一台EUV光刻机，牵涉到几十万零件，几千家供应链，有些供应链甚至全球仅此一家，一旦被ASML绑定了，其它企业就无法合作了。
你可能说会自己重建一套呗？但是想要自己全部重建一套供应链，这是不现实的，因为市场就这么大，就够一家企业吃饱，重建供应链的后果，是供应链根本就吃不饱，活不下来，谁愿意干这么事？所以供应链也是关键之一。
三、和生态息息相关
光刻机是用来制造芯片的，光刻机的调整改进，必须要进入车间，与晶圆厂一起试验研究。
而目前我们的芯片制造技术什么样了？大家都懂的吧，ASML与英特尔、台积电、三星等都是合作关系，生态都是相辅相成的。
而我们呢，就算制造出来了，也没有一个合适的测试厂，所以这也是原因之一。
可见，要制造出EUV光刻机，可不是简单的某一点突破就行，需要全方面的突破，而我们目前的水平，还在干式光刻机阶段，之后还有浸润式光刻机，再到EUV光刻机，代差还有好几代，路还有点长，要有一点耐心，这东西的突破，真不是一朝一夕的事。
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